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當前位置：首頁 / 產品中心 / PTFE聚四氟乙烯系列產品 / 四氟過濾器 / RNKW-PTFEMC-47mmPTFE膜池47mm四氟過濾器耐酸堿潔凈度高
產品簡介
PTFE膜池47mm四氟過濾器耐酸堿潔凈度高PTFE膜池產品名稱：PTFE膜池（過濾器）直徑：47mm、90mm（尺寸可定制）貨號：RNKW-PTFEMC-47mm廠家：南京瑞尼克
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2024-10-262024-07-232022-07-232022-10-25| 品牌 | 南京瑞尼克 | 貨號 | RNKW-PTFEMC-47mm |
|---|---|---|---|
| 規格 | 47mm 90mm等可定制 | 供貨周期 | 一周 |
| 主要用途 | 超純水,光刻膠等高純度化學品過濾 | 耐酸堿 | 強酸強堿有機溶劑 |
| 潔凈度 | 金屬離子溶出析出低 | 定制 | 尺寸，款式均可根據實驗室需求定制加工 |
| 應用行業 | 半導體，化工，電子材料等 |
PTFE膜池47mm四氟過濾器耐酸堿潔凈度高
PTFE膜池
產品名稱：PTFE膜池（過濾器）
直徑：47mm、90mm（尺寸可定制）
貨號：RNKW-PTFEMC-47mm
廠家：南京瑞尼克
PTFE膜池過濾器是一種高性能的精密過濾設備，其整體都是由聚四氟乙烯材質制成，保證潔凈度無污染，這種膜材具有獨特的物理和化學特性，使得PTFE過濾器成為處理高純度、高腐蝕性、高溫流體的理想選擇。
材質特性
化學相容性
耐受所有強酸、強堿、強氧化劑和有機溶劑，這使得它在處理苛刻化學液體時。
耐溫性
-200°C至+260°C
金屬離子低溶出析出
膜材本身極其純凈，不易釋放任何粒子或離子，是保證下游流體純度的關鍵。
應用領域
1. 半導體制造領域
光刻環節（Lithography）：
光刻膠（Photoresist）過濾： 過濾去除光刻膠中的顆粒，防止在晶圓上形成缺陷。
超純水（UPW）終端過濾： 在化學機械拋光（CMP）后的清洗步驟中，確保步沖洗水的潔凈。
濕法刻蝕與清洗（Wet Etch & Clean）：
高純度化學品過濾： 過濾（HF）、硫酸（H?SO?）、雙氧水（H?O?）、氨水（NH?OH）等超高純工藝化學品中的顆粒和凝膠，防止晶圓污染和刻蝕不均勻。
化學品回收系統： 在廢酸回收純化過程中，過濾雜質。
2.化工與醫藥化工領域
強腐蝕性介質過濾：
過濾濃硫酸、鹽酸、王水、氯堿等，用于催化劑回收、產品純化。
溶劑過濾與回收：
在原料藥（API）生產中，過濾各種有機溶劑（如DMSO，DMF，丙酮），去除顆粒和微生物（使用親水性膜進行除菌過濾）。
3. 電子材料領域
液晶顯示（LCD/OLED）：
過濾ITO蝕刻液、剝離液、顯影液等高純度化學品。
彩色濾光片制程中光阻劑的過濾。
鋰離子電池：
電解液（Lithium-ion Battery Electrolyte）的精密過濾： 去除電解液中的水分、顆粒和金屬雜質，對提升電池一致性、安全性和循環壽命至關重要。
電極漿料過濾： 在涂布前過濾正負極漿料，防止大的團聚物導致涂布缺陷。
光伏產業：
過濾制絨、刻蝕、去PSG等工序中使用的酸、堿化學品。
硅片切割液（Slurry）的回收與過濾。
PTFE膜池47mm四氟過濾器耐酸堿潔凈度高
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